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ASML联合英国赫瑞瓦特大学研发新光源技术
材料来源: 荣格工业激光          

据外媒报道,英国赫瑞瓦特大学与ASML已经达成一项为期5年的合作协议,双方将在新光源技术发展上寻求突破。根据赫瑞瓦特大学官方网站显示,作为双方合作的一部分,ASML将向该大学提供一间全新实验室。

借助与ASML合作项目,大学的John Travers教授将加快基础物理学研究,并为从实验室到新激光技术的市场应用开辟道路。

图片来源:ASML

众所周知,ASML是半导体光刻机的全球领先制造商。该公司生产的光刻机利用光在硅上印刷微小图案,从而实现半导体芯片的批量生产。精度是光刻技术的关键。光学计量的过程是用光建立所需的精确测量值。通过使用ASML光刻机(每台售价数百万美元),使几家大型的芯片制造商可以生产性能更好、价格更便宜的芯片。

据悉,新实验室将在赫瑞瓦特大学校内落成,届时将提升基础物理学研究向工业应用转化的速度。当前,Travers教授的研究重点是用于光学计量的新型宽带光源。ASML设备中的传感器需要在不同波长下工作,不同的材料将会呈现出不同的吸收方式。

Travers教授表示:“最近研究中用到的光学组件类型,曾经在基础物理研究领域中使用过。与ASML展开紧密合作,将使我们的工作迅速向产业化发展,我们也将应对特殊的工程技术挑战,并应用该技术创造对现实世界的影响。”

赫瑞瓦特大学里的詹姆斯·瓦特雕像

“光源技术进步的应用不仅局限于半导体芯片制造。该技术在医疗保健技术和精密制造中也有广泛的应用前景,”ASML开发与工程部副总裁Hein Otto Folkerts谈到,“ASML历来与学术界保持着密切的合作关系。我们与赫瑞瓦特大学、Travers教授的合作将丰富公司的研究项目,以支持原先制定的技术路线。”

2020年12月,赫瑞瓦特大学就曾与超快激光制造商Chromacity签署了为期5年的战略关系协议。根据协议,该大学将为Chromacity提供光子学领域先进的实验室设施和研究人员的访问权限,Chromacity则通过每年至少借调一名工程学博士学生的方式,为大学提供支持。

光刻机

光刻,就是使用光在硅上印刷微小的电路图案,从而批量生产各类集成电路芯片。光刻系统本质上是投影系统,把设计师设计的芯片图案缩小之后刻在半导体材料上,经过复杂的加工处理,得到了各种功能的芯片。

根据所使用的光的波长不同,光刻机分为DUV(深紫外线)光刻机和EUV(极紫外线)光刻机,DUV(深紫外线)光刻技术使用的是波长193nm的光,而EUV(极紫外线)光刻机使用的波长13.5nm的光。

使用的光波长越小,制造芯片的工艺制程越高。目前DUV(深紫外线)光刻机是半导体制造厂商的主流工具,覆盖从45nm-10nm/7nm半导体工艺。


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