13.5nm 下可实现的最大反射

极紫外(EUV) 平面反射镜提供5°和45°AOI 版本，在13.5 nm 下可获得近乎理想的反射率，是EUV光谱中拥有最高反射率的波长。RoHS 兼容型反射镜提供一种沉积在超抛光单晶硅基片上的镀膜，具有优越的热稳定性。这些EUV 平面镜的表面粗糙度小于3Å RMS，可大大降低入射光的散射。多层金属/半导体镀膜包括具有硅表层的钼/硅多层。45°AOI 平面镜在632.8 nm 和6.35 mm 厚度下的表面平整度为λ/10，非常适合转向S 偏振光束，5°AOI 平面镜则非常适用于非偏振光束。

适用于CDI 和材料科学研究

极紫外(EUV) 平面反射镜用于相干衍射成像(CDI) 和材料科学研究等新兴应用。CDI 是一种非接触式成像技术，可以达到接近10nm 的分辨率，常用来分析极小的纳米结构。反射镜也被用作高谐波生成(HHG) 光束的谐波选择器。极紫外(EUV) 平面反射镜有现货，可立即交付。

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