大族激光8月10日在互动平台表示，公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的应用，目前已接到少量订单。

光刻机是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。而光刻机是中国芯片发展的最大障碍。

众所周知，高端芯片制造所需的光刻机一直以来被荷兰ASML公司垄断，一台精密光刻机售价上百亿，而我国半导体行业起步较晚，光刻机技术与ASML的差距非常大。

具体地，我国光刻机最高技术也就上海微电子所生产的90nm光刻机。除此之外，目前合肥芯硕半导体公司也具备量产200nm光刻机的实力，无锡影幻半导体公司也具备200nm光刻机量产的实力。而ASML则在7nm级别。

简单来看，这些数字差距可能看起来不大，但事实上，90nm跟28nm或者是7nm是千差万别的，光刻机每上一个台阶技术难度就会大大增加，可能从90nm升级到65nm并不难，但是从65nm升级到45nm，就是一个技术节点了，至于28nm、14nm和7nm，甚至未来有可能出现的3nm，那难度就更大了。也正因为如此，我国的光刻机的研发进度一直都比较缓慢。

据有关媒体报道，光刻机正成为华为的第四场战役。据悉，余承东在一次百人大会上的时候透露过，早在四年前，华为就已经为接下来集团的布局做好准备了，他们在2016年的时候就已经成立了团队去研发光刻机，现在已经取得了很大的进展。